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电致发光测量系统PCB抄板及产品的全套克隆案例

　　该电致发光(Electroluminescence)测量系统是深圳芯谷集成电路有限公司PCB抄板中心在原样机的基础上二次开发而研制的，主要用于化合物半导体材料或器件的测量，尤其是LED或LD外延薄膜或器件。

　　技术参数
　　晶圆尺寸：2，3，4英寸(客户订制不大于12英寸)；
　　样品台移动控制：精度优于6微米，步长分辨率优于0.5微米；
　　光探测：透射模式(标准)，反射模式(选配，用于不透明基底)；
　　探针类型：Type I, Type II；
　　扫描速度：约4-20分钟/100测量点(依应用不同)；
　　测量模式：快速EL模式，EL扫描模式；
　　电流测量：standard >10e-6A,optional >10e-12A；
　　测量曲线类型: 特定电流/电压下的EL光谱，电流或发射强度vs.电压(LIV)，输出表征：intensity vs. driving current, FWHM或峰波长vs. driving current等；
　　扫描类型: 在driving voltage/current下的总发射强度，外部量子效率，强度，FWHM；在特定driving voltage或特定波长下的发射强度；其他LED参数扫描可以订制；
　　选配功能: PL characterization (EL-300)，enhanced electrical characterization (EL-500)，Reverse leakage，LD；
　　主要特点
　　1）省去了In-dot过程，无须制作电极，直接在晶圆上测量光电信号，不破坏材料表面；
　　2）快速EL或者ELMapping测量，最快4分钟/100点；
　　3）通用的波长范围：UV/VIS或VIS/NIR，或客户化订制；
　　4）样品尺寸:2~8英寸；
　　5）可对比参考PL测试结果。
　　深圳芯谷集成电路有限公司长期从事PCB抄板、芯片解密、电路板克隆、样机制作及电子设备仿制等反向技术研发，是目前国内最大最具权威性的一家反向技术研发机构，欢迎有相关需求的朋友来电咨询及洽谈！